PLASMA桌面型多功能等离子设备概要：
是针对研发、试产需求设计的桌面型多功能等离子处理系统。其紧凑可靠的设计可在真空腔室内产生密集、均匀的等离子体，适用于等离子表面处理、表面刻蚀以及其它多种工艺应用。
PLASMA桌面型多功能等离子设备特点：
设计紧凑的桌面型等离子工艺平台，易于与厂务端连接
可靠的腔体结构设计，确保工艺腔体具备一流的气密性与耐用性
优秀的进气、排气设计，保证工艺过程的均匀性
支持多种电极形式与最多4路工艺气体，适用于处理各种产品并适应多种工艺要求
直观的图形控制界面，通过触屏可实时观察、控制工艺过程
13.56MHz射频电源与自动匹配系统，具有优异的稳定性和可重复性
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PLASMA桌面型多功能等离子设备应用领域：
材料表面有机污染物的去处
去处纳米级金属氧化层
增强表面胶体流动性，消除涂层、塑封料的分层
提升表面能，实现难粘材料的有效结合
表面粗化与微蚀：消除表面应力，使材料更易结合
纳米级表面粗化，应力释放
光刻胶去除
对多种材料的选择性刻蚀
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