84915191501.png

MALCOM SAP-1Máy Phun tự động silicon/phosphor
  • Đặc điểm
  • Thông số
  • Ứng dụng
  • Tài liệu
  • Sản phẩm khác
  • Hãng
  • Clip

    Đặc điểm của Máy Phun tự động silicon/phosphor MALCOM SAP-1

    -         Phương thức phun: áp lực khí.

    -         Phun giai đoạn 1: sử dụng phun ống điện tử 20mg mật độ dày.

    -         Phun giai đoạn 2:sử dụng ống điện tử 1mg mật độ dày phun lượng nhỏ.

    -         Phun giai đoạn 3: sử dụng phương thức chấn động đối với bột phosphor để đưa vào một lượng nhỏ (hiện đang trong quá trình phát triển).

     

     



    Thông số của của Máy Phun tự động silicon/phosphor MALCOM SAP-1

    Giá trị độ   nhớt trong thí nghiệm phun

    10Pa

    6Pa


    Trọng lượng   mục tiêu(mg)

    Trọng lượng đo (mg)

     

    Phạm vi sai số

    Trọng lượng   mục tiêu(mg)

    Trọng lượng đo (mg)

    Phạm vi sai số

    Thời gian

    10000

    10000.7

    -0.7

    10000

    9999.2

    0.8

    2:59

    10000

    10000.4

    -0.4

    10000

    9999.8

    0.2

    2:58

    Giá trị độ   nhớt trong thí nghiệm phun

    10000

    9999.8

    1.2

    10000

    9999.1

    1.9

    10000

    10001.4

    -1.4

    Giá trị độ   nhớt trong thí nghiệm phun

    10000

    10000

    0

    10000

    9998.9

    1.1

     


Copyright © 1999-2017 Hapoin Enterprise 沪 ICP 备 11051220 号 govicon.png沪公网安备 31010502002237号 All Rights Reserved6361965666700518682694613.png