MALCOM RDT-165CPセル生産用リフロー装置
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    RDT-165CP特徴:

    · 10パターンのプロファイル設定がメモリできます。(専用ソフトを用いてUSBにて転送)

    · 最大10ステージの加熱設定ができるので、多彩な温度プロファイルを最適に実現できます

    · 複数台を設置してもインテリジェント機能にて同時本加熱を防ぎ、工場配線電力を抑えます

    · コンパクトなサイズで低価格、作業スペースを効率よく設計できます

    · 熟練者でなくても必要に応じて時間をかけずに段取り変えをスムーズに行えます


    RDT-165CP仕様:


    RDT-165CP-A RDT-165CP-N
    対象基板寸法大きさ 200W×165Lmm以下
    高さ 保持面上20mm 下15mm以下
    装置寸法460W×735D×1067H mm (本体) 1327H mm (シグナルタワー)
    加熱方式上面:熱風・遠赤外線輻射併用
    下面:遠赤外線輻射
    冷却方式プロペラファン(下面)による
    電源3相 200V 50/60Hz 7kVA
    外部ガスエア供給
    0.3 - 0.5MPa 100㍑/min (MAX)
    (流量調整バルブ内蔵) 
    窒素供給
    0.3 - 0.5MPa 100㍑/min (MAX)
    (流量調整バルブ内蔵) 
    基板トレイネット式またはキャリア式(いづれか選択)
    上面加熱熱風・遠赤外線ヒータ:4.8kW(約400W×12ブロック)
    ※基準モジュールに対する偏差設定可能
    下面加熱遠赤外線ヒータ :約1kW(500W×2)
    加熱温度常温~330℃
    制御用専用ソフト(添付品)RDT-165CS
    対応OS : Windows XP/2000
    装置質量約85kg


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